万字全解国产EUV光刻机光学系统及华为EUV专利

Video Description

EUV光刻机共有三大核心部件，分别为EUV光源系统，光学曝光系统以及超高精度真空双工件台。其中EUV光学曝光系统就像科幻世界中的虫洞那样，这边是碳基人类的物理世界，那一边则连接着硅基微观赛博世界。EUV光学曝光系统又包含三大核心部件：照明、掩膜和物镜。照明系统位于光源和掩膜之间，调节光场的空间和角谱分布，为掩膜版提供曝光最合适的照明光场。物镜则把掩膜的图案投射于晶圆之上。光刻机通过照明系统、掩膜版、投影物镜、加上实时的光刻计算，光学曝光系统三大部件互相动态配合，从而实现最佳的光学曝光方案。中国光学领域龙头老大是中科院长春光学精密机械和物理研究所。所以EUV光刻机的高精度弧形离轴反射镜系统，长春光机所义不容辞挑起了大梁。